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德國ZESTRON HYDRON SE 230A半導體器件的堿性清洗劑

詳細說明

    HYDRON® SE 230A

用于半導體器件的堿性清洗劑



專為浸沒式清洗工藝設計的單相水基型清洗劑,能夠有效去除多種半導體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物,包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS,且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。



相較于其他清洗液的優(yōu)勢:



為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無污點且激活的銅表面并在一定時間內(nèi)保持活性

在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時表現(xiàn)出良好的材料兼容性

非常低的表面張力,在清洗低間隙元器件的底部殘留物時擁有卓越表現(xiàn)

應用過程十分簡便,在浸沒式清洗工藝中擁有卓越表現(xiàn)

能夠輕易被去離子水漂洗干凈,不會留下任何殘留

應用領域

去除污染物

清洗工藝

清洗技術

SiP封裝清洗

晶圓級封裝清洗

MEMS器件封裝清洗

攝像模組清洗

功率電子器件清洗

 
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