二手舊等離子刻蝕機(jī)進(jìn)口清關(guān)報(bào)檢報(bào)關(guān)行
刻蝕機(jī)進(jìn)口清關(guān)報(bào)檢報(bào)關(guān)，舊等離子刻蝕機(jī)進(jìn)口報(bào)關(guān)行，二手刻蝕機(jī)進(jìn)口報(bào)檢報(bào)關(guān)
等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中1常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來(lái)講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設(shè)計(jì)的是富有彈性的，用戶(hù)可以移去架子來(lái)配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。
主要企業(yè)（品牌）：
國(guó)際：英國(guó)牛津儀器公司、美國(guó)Torr公司、美國(guó)Gatan公司、英國(guó)Quorum公司、美國(guó)利曼公司、美國(guó)Pelco公司。
國(guó)內(nèi)：北京儀器廠(chǎng)、北京七星華創(chuàng)電子有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、戈德?tīng)柕入x子科技（香港）控股有限公司、中國(guó)科學(xué)院微電子研究所、北方微電子、北京東方中科集成科技股份有限公司、北京創(chuàng)世威納科技。
二手舊等離子刻蝕機(jī)進(jìn)口提供的具體材料：
申請(qǐng)資料包括：
1）進(jìn)口舊半導(dǎo)體產(chǎn)品備案申請(qǐng)書(shū)
2）申請(qǐng)人、收貨人、發(fā)貨人營(yíng)業(yè)執(zhí)照（復(fù)印件）
3）裝運(yùn)前預(yù)檢驗(yàn)申請(qǐng)書(shū)
4）擬進(jìn)口舊半導(dǎo)體產(chǎn)品清單（按標(biāo)準(zhǔn)格式填寫(xiě)，一式兩份，要求以電腦打制。）
5）進(jìn)口上海半導(dǎo)體設(shè)備描述（按網(wǎng)上標(biāo)準(zhǔn)格式填寫(xiě)）
6）其它材料（8年前制造的舊半導(dǎo)體晶圓產(chǎn)品原則上均需提供產(chǎn)品彩色圖片/照片；制造年限久的半導(dǎo)體晶圓如在發(fā)運(yùn)前已經(jīng)維修整理，申請(qǐng)人可提供相關(guān)記錄與證明；進(jìn)口的二手大型成套半導(dǎo)體晶圓需提供半導(dǎo)體晶圓配置圖、工藝流程圖等資料。）
7）進(jìn)口用于銷(xiāo)售、租賃或者維修等用途且國(guó)家實(shí)施強(qiáng)制性產(chǎn)品認(rèn)證制度、進(jìn)口質(zhì)量許可管理以及有其他規(guī)定要求的舊半導(dǎo)體晶圓產(chǎn)品的，備案申請(qǐng)人申請(qǐng)備案時(shí)必須提供相應(yīng)的證明文件（復(fù)印件）
8）合同或協(xié)議
9）進(jìn)口舊半導(dǎo)體晶圓產(chǎn)品擬備案工作聯(lián)系單（需辦理半導(dǎo)體晶圓證時(shí)提供）
進(jìn)口二手舊等離 子刻蝕機(jī)CCIC裝運(yùn)前預(yù)檢驗(yàn)工作事項(xiàng)：
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