真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層·
真空蒸鍍:在高真空下，通過金屬細(xì)絲的蒸發(fā)和凝結(jié)，使金屬薄層附著在塑膠表面。 真空蒸鍍過程中金屬(*常用的鋁)的熔融，蒸發(fā)僅需幾秒鐘，整個(gè)周期一般不超過15s，鍍層厚度為0.8-1.2uM.
設(shè)計(jì)真空蒸鍍塑料制品應(yīng)避免大的平坦表面，銳角和銳邊。凹凸圖案、紋理或拱形表面效果*佳。真空蒸鍍很難獲得光學(xué)平面樣制品表面。
真空鍍表面鍍的是漆，水鍍表面鍍的是金屬層。
A9手機(jī)的面殼鍍銅后鍍LOU，共10μ，鍍LOU層0.18μ。真空電鍍相對(duì)于水電鍍來講，表面硬度較低，耐磨度也比較低，遇陽光易老化掉色，但污染較小。真空鍍不導(dǎo)電
目前水電鍍在重工業(yè)上應(yīng)用較多(汽車等)，而真空電鍍則廣泛應(yīng)用于家用電器、化妝品包裝。
如果真空電鍍的硬度能達(dá)到水電鍍的等級(jí)，那么水電鍍將要消失了。
目前很多手機(jī)上的金屬外觀件，都采用PVD真空離子鍍，不僅能夠提供漂亮的顏色而且耐磨性很好。不過比較貴，成本較高。
濺射鍍:磁控濺射鍍膜設(shè)備:
磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備。可根據(jù)用戶要求配
置旋轉(zhuǎn)磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈沖疊加式偏壓電源等，
組態(tài)靈活、用途廣泛，主要用于金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件鍍鋁、
銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬膜及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、
致密、附著力強(qiáng)等特點(diǎn)，可廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術(shù)品、玩具、車燈
反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。
a旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜機(jī);旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜技術(shù)，是國內(nèi)外*先進(jìn)的磁控濺射鍍膜技術(shù)，靶材利用率達(dá)到70~80%
以上，基體鍍膜均勻，色澤一致。
b平面磁控濺射鍍膜機(jī);
c中頻磁控濺射鍍膜機(jī);
d射頻磁控濺射鍍膜機(jī)。
可以在金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷)的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼及金屬反應(yīng)物(氧化
物、氮化物、炭化物)、半導(dǎo)體金屬及反應(yīng)物。所鍍膜層均勻、致密、附著力好等特點(diǎn)。
一、 單室/雙室/多室磁控濺射鍍膜機(jī)
該鍍膜機(jī)主要用於各種燈飾、家電、鐘表、玩具以及美術(shù)工藝等行業(yè)，在金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷)等
制品鍍制鋁、銅、鉻 |
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