無氣泡真空制藥膠體磨，高剪切制藥膠體磨，小粒徑高濃度醫(yī)藥膠體磨 醫(yī)藥級無殘留膠體磨可在線，可循環(huán)，轉(zhuǎn)速高，線速度大，耗時(shí)短，環(huán)保無殘留。
效果：比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒，通過分別通入腔體，兩種物料接觸時(shí)被剪切成微滴，均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。
納米混懸液是以表面活性劑或(和)高分子聚合物為穩(wěn)定劑，將藥物顆粒分
散在水中，通過自組裝技術(shù)或者破碎技術(shù)制備的一種亞微膠體分散系。與其他的
納米制劑相比，納米混懸制劑不需要任何載體材料，僅需要少量穩(wěn)定劑即可實(shí)現(xiàn)大量藥物納米化，具有載藥量高、粒徑小、比表面積大、對生物膜粘附性強(qiáng)、不易被清除、能夠提高難溶性藥物的生物利用度等優(yōu)勢。
納米混懸液常用的制備方法有多種，其中，以將藥物顆粒由大到小的破碎技
術(shù)(如研磨、高壓均質(zhì)、微射流等)zui為常用。在破碎前，一般先將藥物、穩(wěn)定
劑分散/溶解于水相，即對藥物和穩(wěn)定劑進(jìn)行前處理。然而，分散過程中強(qiáng)烈的
攪拌、剪切作用會(huì)使一些藥物、穩(wěn)定劑產(chǎn)生大量的泡沫，且泡沫會(huì)在破碎過程(研磨、高壓均質(zhì)、微射流等)中增多，進(jìn)而阻礙破碎過程的進(jìn)行。
納米混懸液破碎真空膠體磨通過皮帶對設(shè)備進(jìn)行加速的。納米混懸液在ikn真空均質(zhì)機(jī)負(fù)壓條件下，經(jīng)高速剪切或快速攪拌，將藥物混懸于水相A，再將容器與大氣連通，使體系壓力恢復(fù)正常，得混懸液B。其設(shè)備采用的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)是立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
納米混懸液破碎真空膠體磨是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高ke技產(chǎn)品。
第yi級由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
ikn上海依肯膠體磨與國nei膠體磨部分對比分析：（更多請接洽上海依肯林工）
設(shè)備結(jié)構(gòu)：國nei膠體磨設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)為三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細(xì)磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)，溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣
上海IKN設(shè)備的設(shè)備結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細(xì)磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)，雖然都是三級結(jié)構(gòu)，但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同，形狀及齒列的結(jié)構(gòu)，溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺，配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。
無氣泡真空制藥膠體磨，高剪切制藥膠體磨，小粒徑高濃度醫(yī)藥膠體磨 醫(yī)藥級無殘留膠體磨可在線，可循環(huán)，轉(zhuǎn)速高，線速度大，耗時(shí)短， |
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