化學(xué)符號：Ta
原 子 量：180.9479
密 度：16.6 g/cm3
熔 點：2996℃
在10-4Torr蒸發(fā)溫度： 2590℃
溶 解 于：熱堿,氫氟酸
電 阻 率：13-16μΩ•cm
線膨脹系數(shù)：6.5×10-6℃-1
功 函 數(shù)：4.15-4.25eV
熱 導(dǎo) 率：0.54W/（cm•K）
機械和化學(xué)性質(zhì)：形成好的薄膜。耐酸性和延展性好。
應(yīng) 用：Ta膜主要用作薄膜電容器和抗蝕圖層。
二,主要產(chǎn)品
1.鉭 靶材 99.95%常規(guī)尺寸：φ50*3mm；φ76.2*6mm；φ80*5mm；φ100*5mm,尺寸可定做
2.鉭 顆粒 99.95%常規(guī)尺寸：φ6*6mm；φ3*3mm
3.鉭 粉末 99.95%常規(guī)尺寸：-300
4.鉭 絲/棒 99.95%常規(guī)尺寸：φ1mm；φ3mm；φ6mm；φ10mm；
研創(chuàng)新材供應(yīng)其它高純度濺射靶材如下
高純鋁靶材Al 高純銅靶材Cu 高純鐵靶材Fe 高純鈦靶材Ti 高純鎳靶材Ni
高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr 高純鋅靶材Zn 高純銀靶材Ag 高純鈷靶材Co
高純鈮靶材Nb 高純錫靶材Sn 高純銦靶材In 高純鋯靶材Zr 高純鉭靶材Ta
高純鍺靶材Ge 高純硅靶材Si 高純鎢靶材W 高純鉿靶材Hf 高純釔靶材Y
高純釓靶材Gd 高純釤靶材Sm 高純鏑靶材Dy 高純鈰靶材Ce 高純鑭靶材La
高純金靶材Au 高純不銹鋼靶材高純石墨靶材C 高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo
高純鉑靶材Pt 高純鉛靶材Pb 高純鐠靶材Pr 高純鋱靶材Tb 高純鈥靶材Ho
高純鐿靶材Yb 高純銩靶材Tm 高純镥靶材Lu 高純鉺靶材Er 高純鈧靶材S |
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